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摘要:
采用垂直布里奇曼法(VB法)生长2英寸GaSb单晶,分析了GaSb多晶产生的原因,即GaSb原料与覆盖剂中残留水分发生化学反应生成氧化镓残渣,残渣吸附在坩埚内壁导致GaSb多晶形成.通过增加覆盖剂除水工艺,成功生长出2英寸高质量GaSb单晶.此外,研究了单晶内部位错分布特点,结果显示GaSb晶体具有较低的位错密度,EPD≤500 cm-2;同时,对晶体进行XRD摇摆曲线测试,其FWHM值为27 arcsec,表明晶体质量较高;此外,对晶体进行了电学性能测试,结果显示制备的GaSb晶体呈P型导电,晶体迁移率为610 cm2/V·s,载流子浓度达到了1.68×1017cm-3.
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文献信息
篇名 大尺寸高质量GaSb单晶研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 GaSb 垂直布里奇曼法 位错密度 覆盖剂
年,卷(期) 2016,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 901-905
页数 5页 分类号 O78
字数 2738字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李璐杰 中国电子科技集团公司第四十六研究所 5 4 2.0 2.0
2 程红娟 中国电子科技集团公司第四十六研究所 44 47 4.0 5.0
3 张颖武 中国电子科技集团公司第四十六研究所 14 16 2.0 3.0
4 徐永宽 中国电子科技集团公司第四十六研究所 28 57 4.0 6.0
5 练小正 中国电子科技集团公司第四十六研究所 10 9 1.0 2.0
6 张志鹏 中国电子科技集团公司第四十六研究所 1 0 0.0 0.0
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位错密度
覆盖剂
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研究去脉
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
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