化学机械平坦化材料对蓝宝石抛光速率与粗糙度的影响

• 作者: 刘玉岭 王辰伟 贾少华 闫辰奇
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石 CMP 活性剂 分散度 温度
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术
• 页码范围: 2242-2246,2252
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2837字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.02.047

摘要

采用自主研制的新型碱性蓝宝石抛光液,在蓝宝石化学机械平坦化过程中加入FA/O型非离子表面活性剂,该活性剂能够减小蓝宝石表面粗糙度,同时,在蓝宝石抛光速率下降不明显的情况下实现较高的凹凸去除速率差,有利于实现蓝宝石的全局平坦化.通过实验得到了碱性条件下抛光速率较高、粗糙度较小的最佳pH值.研究了等质量分数等粒径条件下磨料分散度以及抛光温度对抛光速率和蓝宝石表面粗糙度的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子技术与材料研究所	263	1540	17.0	22.0
2	王辰伟	河北工业大学微电子技术与材料研究所	80	287	8.0	10.0
3	闫辰奇	河北工业大学微电子技术与材料研究所	11	34	3.0	5.0
4	贾少华	河北工业大学微电子技术与材料研究所	2	6	1.0	2.0