高纯超薄氧化铝制备

• 作者: 丁玉强 吕东芸 杜立永
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: Al2O3 薄膜 前驱体 ALD
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TQ132.2
• 语种: 中文

摘要

随着科学技术的迅猛发展以及各行业要求的不断提升,薄膜类A2O3开始受到瞩目,其需求不断增长.选择价廉易得的无机盐AlCl3为铝前驱体,利用其与水共同作用通过ALD技术沉积制备得到的Al2O3薄膜.该方法沉积温度范围广,在50 ～400℃均能得到致密均一的薄膜(通过SEM表征),相应的沉积速率为0.03～0.11 nm/次,能够满足各种不同工艺需求.通过XPS对薄膜成分进行分析,经过刻蚀之后,各沉积温度下Al与O的原子百分数之比为2:(2.89～3.2),与Al2O3十分吻合.所得薄膜杂质总含量小,最低可达1.3％(原子百分数),纯度高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁玉强		34	107	6.0	9.0
2	杜立永		9	2	1.0	1.0
3	吕东芸		1	1	1.0	1.0