氮流量对孪生靶磁控溅射沉积氮化铬薄膜性能的影响

• 作者: 刘忠伟 张海宝 李花 杨丽珍 袁燕 陈强
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 氮化铬薄膜 氮流量比 孪生靶
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1381-1386
• 分类号: TB3|TG14|TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.12.07

摘要

采用中频孪生靶反应磁控溅射在金属镍基底上制备氮化铬薄膜.利用X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、磨擦磨损试验仪和电化学工作站等系统研究了氮气流量(即氮/氩流量比)对薄膜的相结构、显微硬度、表面形貌、附着力、耐磨性和耐腐蚀性的影响.结果得到随氮/氩流量比的增加,CrNx薄膜成分经历了一个由Cr→Cr+ CrN→Cr+ Cr2N+CrN的演化过程,薄膜形貌由致密、球状颗粒向类长方体规则形状的面心结构转化;而薄膜的表面粗糙度则呈现出在低氮时稍微下降,高氮含量时又快速增加的趋势,在N2/Ar流量比为23/53时,粗糙度达到最小;耐磨性、硬度都呈现随着氮流量的增加先上升后下降;薄膜耐腐蚀性能随氮的加入明显得到改善.综合性能分析认为,制备2.5μm厚的氮化铬薄膜时在N2/Ar(流量比)为23/53较为合适.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈强	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	125	542	10.0	17.0
2	杨丽珍	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	44	190	8.0	12.0
3	李花	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	3	1	1.0	1.0
4	张海宝	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	5	1	1.0	1.0
5	刘忠伟	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	25	62	5.0	7.0
6	袁燕	北京印刷学院等离子体物理与材料研究室	1	1	1.0	1.0