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摘要:
分别采用3MeV和10MeV的质子对GaN基HEMT(High Electron Mobility Transistor)器件进行辐照。实验发现:低注量辐照引起了体材料载流子浓度增加,高注量辐照引起了HEMT器件漏电流下降,跨导减小,阈值电压显著退化的结果。通过分析发现辐射感生受主缺陷引起的2DEG浓度降低是上述器件退化的主要原因。此外基于实验结果,采用辐射感生受主缺陷退化模型仿真并计算了HEMT器件主要参数随受主浓度的退化规律,仿真结果与实验结果有较好的一致性。本文实验结果也表明场板结构和SiN钝化层有效地阻止了电子陷落在表面态中,屏蔽了绝大部分的辐照损伤,是很有效的辐射加固手段。
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文献信息
篇名 质子辐照对场板AlGaN/GaN HEMT器件电特性的影响
来源期刊 电子学报 学科 工学
关键词 AlGaN/GaNHEMT 质子辐照 辐射感生受主缺陷 辐射加固
年,卷(期) 2016,(6) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 1445-1449
页数 5页 分类号 TN323+.4
字数 3744字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0372-2112.2016.06.027
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AlGaN/GaNHEMT
质子辐照
辐射感生受主缺陷
辐射加固
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