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磁控溅射法制备钼薄膜的研究现状
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摘要：
综述了基底表面状态和预热温度,靶材组织和热处理温度,溅射工艺参数(包括时间、功率、气压和靶基距),以及后续退火热处理对磁控溅射制备的Mo薄膜组织及性能的影响.
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期刊影响力
电镀与涂饰
主办单位：
广州市二轻工业科学技术研究所
出版周期：
半月刊
ISSN：
1004-227X
CN：
44-1237/TS
开本：
大16开
出版地：
广州市科学城科研路6号
邮发代号：
46-155
创刊时间：
1982
语种：
chi
出版文献量（篇）
5196
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