基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法

• 作者: 刘鑫 史立芳 庞辉 张满 曹阿秀 邓启凌
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射光学元件 低成本 批量化 纳米压印 跨尺度兼容
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 衍射与光栅
• 页码范围: 102-106
• 分类号: TN205
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20164506.0605001

摘要

针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250 nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘鑫	中国科学院光电技术研究所	76	880	15.0	27.0
2	邓启凌	中国科学院光电技术研究所	24	153	8.0	10.0
3	张满	中国科学院光电技术研究所	8	30	3.0	5.0
4	庞辉	中国科学院光电技术研究所	11	31	3.0	5.0
5	史立芳	中国科学院光电技术研究所	16	72	5.0	8.0
6	曹阿秀	中国科学院光电技术研究所	11	36	3.0	5.0