含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

• 作者: 张立成 张立眉 王赫 高建峰
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 聚硅氧烷 席夫碱 液晶 条带织构 合成 液晶性能
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 快递论文
• 页码范围: 507-509,536
• 页数: 4页
• 分类号: O634
• 语种: 中文
• DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.2016.06.15328

摘要

对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元(1)；3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸(2)；2经加成和酰氯化后，与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶(5)，其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明：5属于近晶型条带织构；5具有较高的熔点和清亮点温度，液晶区间在180.34~251.11℃。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高建峰	中北大学理学院化学系	82	391	10.0	16.0
2	张立眉		4	6	2.0	2.0
3	张立成		3	4	2.0	2.0
4	王赫		1	2	1.0	1.0