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CeO2纳米粒子抛光液分散稳定性及其化学机械抛光特性研究
CeO2纳米粒子抛光液分散稳定性及其化学机械抛光特性研究
作者:
佘亦曦
刘德福
陈广林
陈涛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
抛光液
分散性
表面活性剂
化学机械抛光
吸光度
Zeta电位
摘要:
目的 制备性能优良的CeO2纳米粒子抛光液.方法 通过使用不同种类及不同浓度的分散剂制备了一种良好的CeO2纳米粒子抛光液,采用激光粒度仪,紫外可见分光光度仪等对其进行了表征,进而研究了其在石英玻璃片化学机械抛光中的特性.结果 不同分散剂的分散作用不同,且分散剂的浓度直接影响分散效果.离子型分散剂主要通过静电稳定作用实现抛光液的分散稳定,而非离子型分散剂则通过空间位阻作用实现抛光液的分散稳定.阴离子型分散剂与非离子型分散剂的分散稳定效果明显强于阳离子型分散剂,而阴离子型分散剂与非离子型分散剂混合复配后的分散稳定效果又强于单一分散剂的效果.结论 混合复配型分散剂配制的CeO2纳米粒子抛光液静置72 h后仍分散均一稳定,基本可以满足抛光液分散稳定性能的要求.配制的CeO2纳米粒子抛光液在石英玻璃化学机械抛光中主要通过纳米粒子的吸附作用实现材料的去除,抛光后的石英玻璃表面无划痕,表面粗糙度可以达到1o nm左右,有效提高了石英玻璃的抛光质量.
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文献信息
篇名
CeO2纳米粒子抛光液分散稳定性及其化学机械抛光特性研究
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
抛光液
分散性
表面活性剂
化学机械抛光
吸光度
Zeta电位
年,卷(期)
2016,(11)
所属期刊栏目
表面质量控制及检测
研究方向
页码范围
187-193
页数
分类号
TQ584
字数
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.11.029
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘德福
中南大学机电工程学院
29
274
10.0
16.0
3
陈涛
中南大学机电工程学院
42
215
9.0
13.0
5
陈广林
中南大学机电工程学院
3
20
2.0
3.0
10
佘亦曦
中南大学机电工程学院
4
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抛光液
分散性
表面活性剂
化学机械抛光
吸光度
Zeta电位
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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