种子层及掺杂浓度对溶胶-凝胶法制备ZnO∶Al薄膜光电性能的影响

• 作者: 彭寿 操芳芳 汤永康 王东 王芸 王萍萍 甘治平 金良茂
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: Al掺杂浓度 种子层 铝掺杂氧化锌薄膜 光电性能
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 543-549
• 页数: 7页
• 分类号: TB34
• 字数: 3327字
• 语种: 中文

摘要

本文采用溶胶-凝胶法以提拉的方式在普通玻璃基底上制备出n型掺杂具有优良光电性能的氧化锌掺铝(AZO)薄膜,并以磁控溅射AZO薄膜为种子层引导液相法所制备AZO薄膜生长.Al掺杂浓度区间为0.25at％～5.00at％.通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、轮廓仪、方块电阻测试仪、霍尔效应测试仪、紫外-可见-红外分光光度计分别研究了薄膜物相、微观结构、膜厚及光电性能,进一步分析了Al掺杂浓度、种子层对薄膜光电性能的影响.结果表明:经10次提拉所制备薄膜可见光透过率85％以上.Al掺杂浓度、种子层的引入对AZO薄膜的光电性能有重要影响.无种子层时,掺杂浓度为0.50at％的AZO薄膜在5％ H2、95％N2还原气氛下于550℃保温60 min得到最优电学性能,方块电阻约为166 Ω/□,电阻率约为1.99×10-3 Ω·cm;预镀AZO种子层所制备薄膜方块电阻下降到约42Ω/□,电阻率下降到约7.56×10-4Ω·cm.