锥形半导体激光芯片的光刻工艺研究

• 作者: 刘友强 尧舜 曹银花 李景 王智勇 王青 秦文斌 许商瑞 邱运涛
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 锥形半导体激光器 脊形波导 光刻标 芯片刻蚀
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: ?器件制备及器件物理?
• 页码范围: 1502-1506
• 页数: 5页
• 分类号: TN24|TN31
• 字数: 2246字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163712.1502

摘要

针对锥形半导体激光器中的脊形波导区宽度较小的问题，对半导体激光芯片制造中的刻蚀标记及刻蚀方法进行了研究。提出对于锥形半导体刻蚀中的脊型区域和锥形区域，采用不同精度的双标记刻蚀方法，细化对脊形波导和锥形波导的刻蚀中的对准问题，并使光刻标在不同的光刻版上相错位排列，在相应光刻版中相互遮挡，反复刻蚀中保证相应的光刻标清晰、完整。刻蚀后的芯片在电流为7 A时获得了中心波长963 nm、连续功率4.026 W、慢轴方向和快轴方向激光光束参数乘积分别为1.593 mm·mrad和0.668 mm·mrad的激光输出。