还原剂AS/NaOH体系在硫化黑染色中的应用

• 作者: 姚继明 崔淑玲 张维
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 硫化染料 染色 还原电位 还原剂 染色性能
• 年，卷（期）: 2016,（22）
• 所属期刊栏目: 生产技术
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: TS193.634
• 语种: 中文

摘要

选取环保型还原剂AS/NaOH作为还原体系用于硫化黑染色,研究染料和NaOH质量浓度对染液pH值、还原电位及染后织物K/S值、断裂强力、摩擦牢度等性能的影响.结果表明,提高染料质量浓度,染液pH值和还原电位随之升高,织物K/S值最高达28.42,强力略有降低,对牢度影响不明显;随着NaOH质量浓度增加,染液pH值和还原电位随之提高,染色织物K/S值先增加后降低,最大达28.36,织物强力由1 079.8 N逐渐降低到980.3 N,对摩擦牢度影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张维		42	93	7.0	8.0
2	崔淑玲		54	539	10.0	22.0
3	姚继明		91	288	9.0	14.0