磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展

• 作者: 张罡 张莹莹 时卓 金浩
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 CrAlN 涂层
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 54-59
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 7143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.03.010

摘要

概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能.提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张罡	沈阳理工大学材料科学与工程学院	104	425	11.0	13.0
2	金浩	沈阳理工大学装备工程学院	34	86	5.0	7.0
6	张莹莹		8	20	2.0	4.0
7	时卓	沈阳工业大学材料科学与工程学院	8	15	1.0	3.0