氟利昂F114B2分子在飞秒紫外辐射下的解离动力学?

• 作者: 刘玉柱 张冰 李帅 李静 管跃 邓绪兰 龙金友
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 氟利昂114B2 光解离 离子速度成像 飞秒超快
• 年，卷（期）: 2016,（19）
• 所属期刊栏目: 原子和分子物理学
• 页码范围: 193301-1-193301-7
• 页数: 1页
• 字数: 3630字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.65.193301

摘要

含氟利昂在内的卤代烷烃在太阳光辐射下解离生成破坏臭氧的游离态卤素原子,是破坏大气臭氧层的主要元凶.利用飞秒激光技术结合飞行时间质谱以及离子速度成像探测技术研究了氟利昂F114B2(四氟二溴乙烷)分子在267 nm飞秒激光辐射作用下的多光子电离解离动力学.利用飞行时间质谱技术,得到了四氟二溴乙烷在267 nm飞秒激光脉冲作用下发生多光子解离产生的质谱,发现三个主要碎片离子C2 F4 Br+, C2F+4,和CF2Br+,分别对应了三种主要的解离机理：1)单个C—Br键断裂C2F4Br+2→C2F4Br++Br；2)两个C—Br键断裂C2F4Br+2→C2F+4+2Br；3) C—C键断裂C2F4Br+2→CF2Br++CF2Br.实验采用离子速度成像技术对最主要的碎片离子C2F4Br+进行成像,发现该碎片离子的动能分布可由三个高斯分布曲线拟合,说明单个C—Br键断裂机理对应于三种解离通道.通过影像进一步分析还得到了三个通道的平动能和角分布各向异性参数等详尽的动力学信息.通过密度泛函理论计算对解离动力学进行了进一步的分析和讨论.