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文献信息
篇名 Impact of Native Defects in the High Dielectric Constant Oxide HfSiO4 on MOS Device Performance
来源期刊 中国物理快报(英文版) 学科
关键词 @@
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 92-95
页数 4页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.1088/0256-307X/33/1/016101
五维指标
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2016(0)
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研究主题发展历程
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研究来源
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期刊影响力
中国物理快报(英文版)
月刊
0256-307X
11-1959/O4
16开
北京中关村中国科学院物理研究所内
1984
eng
出版文献量(篇)
14318
总下载数(次)
0
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