物理气相沉积在耐腐蚀涂层中的应用

• 作者: 李沛 钟庆东 顾剑锋
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 物理气相沉积 抗腐蚀 化学成分 涂层结构 膜基界面
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 页码范围: 75-80
• 页数: 6页
• 分类号: TB304
• 字数: 3932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.09.012

摘要

PVD（物理气相沉积）作为一种新型绿色的镀膜技术，由于涂层具备硬度高、耐磨性好、摩擦系数低、化学性能稳定、耐热耐氧化的特点，使其在机械、电子和光学行业得到广泛应用。近些年来随着 PVD 技术应用领域的不断扩展，对涂层的性能提出了更高要求，在保障力学性能的同时，如何提高涂层耐蚀性成为研究热点。概述了PVD 技术应用于材料防腐的相关研究，综述了 PVD 涂层的成分、结构与耐蚀行为的关系，同时分别阐述了在 PVD技术中提高涂层耐蚀性能的方法与机理。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾剑锋	上海大学省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室	14	62	6.0	7.0
3	钟庆东	上海大学省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室	50	259	9.0	12.0
4	李沛	上海大学省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室	3	11	2.0	3.0