P型和N型金刚石薄膜研究进展

• 作者: 张贺 李尚升 龚春生
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 P 型 N 型
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: TB34|O469
• 字数: 4453字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.09.006

摘要

金刚石薄膜有着高的热导率，高的介质击穿场强，高的载流子迁移率以及宽的禁带等优点，是非常理想的功能材料。掺杂使金刚石薄膜具有独特的电学和热学性能，使其在半导体领域具有广阔的应用前景，近年来成为国内外研究的热点之一。综述了金刚石薄膜 P 型掺杂和 N 型掺杂的研究现状，对金刚石薄膜 N 型掺杂研究中存在的问题进行了分析和探索，并对 N 型金刚石的前景进行了展望。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李尚升	河南理工大学材料科学与工程学院	27	48	5.0	5.0
2	龚春生	河南理工大学材料科学与工程学院	2	15	2.0	2.0
3	张贺	河南理工大学材料科学与工程学院	1	11	1.0	1.0