密闭式电喷雾离子源中流场的分布特征

• 作者: 张庆合 张维冰 王伯良 高方园 黄兆亮
• 来源期刊: 分析化学
• 关键词: 电喷雾离子源 气体流场分布 Fluent模拟软件
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 研 究 报 告
• 页码范围: 1707-1714
• 页数: 8页
• 字数: 4308字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11895/j.issn.0253-3820.160323

摘要

利用流体力学模拟软件Fluent构建了电喷雾离子源的二维模型，并基于所构建的模型探讨了离子源构型、辅助气引入方式、气体流速对源内流场分布的影响。结果表明，相比于其它两种结构，矩形结构的离子源能够提供较为稳定的流场。通入同轴辅助气和正交方向辅助气都能够起到聚集样品喷雾的效果，但作用效果却并不相同。提高同轴辅助气流速，能够增大喷口处混返区域，改变气流驻点位置。而增大正交方向辅助气流速，虽然同样能够提高源内各处气体流速，但并不会改变喷口处混返区域的大小。以Turbo V离子源为研究对象，考察了喷针位置、辅助气流速对溶液总离子流的影响，实验趋势与模拟结果基本吻合。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王伯良	南京理工大学化工学院	43	202	8.0	12.0
2	张庆合		57	238	8.0	12.0
3	黄兆亮	南京理工大学化工学院	4	7	2.0	2.0
4	高方园	上海市功能性材料化学重点实验室华东理工大学化学与分子工程学院	2	3	1.0	1.0
6	张维冰	上海市功能性材料化学重点实验室华东理工大学化学与分子工程学院	6	4	1.0	2.0