SiO2/Si衬底上热化学气相沉积法直接生长石墨烯

• 作者: 于晓华 刘建雄 刘忠 戴丹 江南 詹肇麟 陈彩云
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨烯 SiO2/Si 镍膜 热化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 205-208
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

采用化学气相沉积法,以SiO2/Si为衬底、镍膜为催化层,研究不同催化层厚度对石墨烯生长的影响.选择拉曼光谱,透射电子显微镜等手段对石墨烯的层数和质量进行表征.结果表明,随着Ni膜厚度的增加,石墨烯的缺陷减小,而且层数也减少,当Ni膜厚度为300 nm时,可以在SiOJSi基板上获得高质量的单层石墨烯.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江南	中国科学院宁波工业技术研究院	110	2450	30.0	46.0
2	詹肇麟	昆明理工大学材料科学与工程学院	85	454	12.0	18.0
3	刘建雄	昆明理工大学材料科学与工程学院	67	294	10.0	14.0
4	刘忠	昆明理工大学材料科学与工程学院	12	34	4.0	5.0
5	陈彩云	昆明理工大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0
9	戴丹	中国科学院宁波工业技术研究院	3	5	2.0	2.0
10	于晓华	昆明理工大学材料科学与工程学院	36	58	4.0	5.0