复合高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展

• 作者: 张群利 徐淑艳 李春伟 苗红涛
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 高离化率 物理气相沉积 辅助装置
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 82-90
• 分类号: TG174.442
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.06.013

摘要

高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是一门新兴的高离化率磁控溅射技术.概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界面结合强度以及复杂形状工件表面膜层厚度均匀性好等.同时归纳了HIPIMS存在的问题,包括沉积速率及低溅射率金属靶材离化率低等.在此基础上,重点综述了近年来复合HIPIMS技术的研究进展,其中复合其他物理气相沉积技术的HIPIMS,包括复合直流磁控溅射增强HIPIMS、复合射频磁控溅射增强HIPIMS、复合中频磁控溅射增强HIPIMS、复合等离子体源离子注入与沉积增强HIPIMS等;增加辅助设备或装置的HIPIMS,包括增加感应耦合等离子体装置增强HIPIMS、增加电子回旋共振装置增强HIPIMS,以及增加外部磁场增强HIPIMS等.针对各种形式的复合HIPIMS技术,分别从复合HIPIMS技术的放电行为、离子输运特性,及制备膜层的结构与性能等方面进行了归纳.最后展望了复合HIPIMS技术的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张群利	东北林业大学工程技术学院	41	87	6.0	7.0
2	徐淑艳	东北林业大学工程技术学院	32	100	6.0	9.0
3	苗红涛	河南牧业经济学院包装与印刷工程学院	11	14	2.0	3.0