硅纳米线的制备及其光学性能的研究

• 作者: 王金良 秦韶阳 薄乾红 陈亚婷 陈泽升
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硅纳米线 金属催化化学刻蚀法 光吸收
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 页码范围: 1998-2002,2010
• 页数: 6页
• 分类号: O47
• 字数: 2815字
• 语种: 中文

摘要

通过金属催化化学刻蚀的方法中的两步法制备出了具有阵列结构的硅纳米线,研究了不同刻蚀条件对硅纳米线形貌的影响,分析了形成不同形貌的原因.测定了不同条件下制备的硅纳米线的光吸收性能,总结了影响光吸收性能的因素和原因,根据硅纳米线的光吸收图求出了硅纳米线的禁带宽度,说明了硅纳米线已经具备不同于硅片的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王金良	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	24	125	7.0	10.0
2	陈亚婷	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	1	4	1.0	1.0
3	陈泽升	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	1	4	1.0	1.0
4	秦韶阳	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	1	4	1.0	1.0
5	薄乾红	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	1	4	1.0	1.0