环形天线-椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下沉积高品质金刚石膜

• 作者: 刘晓晨 唐伟忠 姜龙 孙振路 安晓明 李义锋 苏静杰
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石膜 化学气相沉积 高功率 氮杂质 椭球谐振腔
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 页码范围: 2028-2033
• 页数: 6页
• 分类号: O614
• 字数: 3754字
• 语种: 中文

摘要

介绍了自行研制的环形天线-椭球谐振腔式高功率MPCVD装置的结构特点,展示并研究了新装置在高功率条件下的放电特性.在10.5 kW的高微波输入功率下成功制备了直径50 mm,厚度接近1 mm的高品质自支撑金刚石膜.在真空泄漏速率约2.5 ×10-6 Pa·m3/s的条件下金刚石膜的生长速率达到6μm/h,金刚石膜厚度偏差小于±2.1％.抛光后的金刚石膜红外透过率在6.5～25μm范围内接近71％;紫外透过率在270 nm处超过50％,金刚石膜样品的光学吸收边约为225 nm;通过紫外吸收光谱计算的金刚石膜样品中的氮杂质含量约为1.5 ppm;金刚石膜的拉曼半峰宽小于1.8 cm-1.