一种X射线成像型平响应低通滤波技术

• 作者: 刘慎业 曹柱荣 朱效立 李晋 杨家敏 杨志文 洪才浩 袁铮 赵屹东 邓博
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线光学 平响应低通滤波 掠入射 微柱面镜阵列 同步辐射
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: X射线光学
• 页码范围: 329-334
• 页数: 6页
• 分类号: O434.19|O435.1|O59
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201636.0534001

摘要

提出一种基于掠入射微柱面反射镜阵列的X射线成像型平响应低通滤波技术.根据X射线光学理论,介绍了基于微柱面反射镜阵列的平响应低通滤波原理,分析了元件透射谱的计算方法.基于电子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上制作了金柱体直径200 nm、深度1.3μm、占空比0.393的微柱面镜阵列样品,根据理论计算在2°掠射角时其截止能量为1250 eV,响应不平整度为5.7％.利用转角精度优于0.1°的三维精密转角机构,在北京同步辐射装置的4B7B软X射线束线站标定样品在不同掠入射角下的透射率,得到初步标定结果.标定结果显示,在1 keV以上的不同能点各曲线均有下降趋势,且角度越大下降能点越偏软,说明掠射角的增大对较高能的X射线具有明显抑制效果.由于电子束刻蚀的技术局限性,样品的深宽比、侧壁垂直度、侧壁粗糙度等参数并未达到理论要求,所以标定结果与理论计算值有一定差异.