道南渗析除砷过程影响因素分析

• 作者: 刁法林 刘安琪 张朝晖 王亮 谭赟 赵斌
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 渗析 膜 扩散 传质 砷 饮用水
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 分离工程
• 页码范围: 2456-2461
• 页数: 6页
• 分类号: X131.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.11949/j.issn.0438-1157.20151980

摘要

道南渗析（Donnan dialysis）是电化学势差驱动的选择性膜过程，可用于饮用水中砷酸根离子[As(Ⅴ)]的去除。通过对膜相As(Ⅴ)传质模型中参数的系统分析讨论了As(Ⅴ)膜相自扩散系数、膜对As(Ⅴ)的选择性、膜面积和膜厚度等对道南渗析除砷过程的影响。结果表明，当转速高于200 r·min?1时膜相传质为道南渗析除砷的速率限制步骤。提高膜相自扩散系数、增大膜有效面积、减小膜厚度能同等程度地改善As(Ⅴ)渗析传质效果，但这些参数并不影响道南平衡达到时料液中As(Ⅴ)的残余浓度。改变料液和解吸液的溶液条件直接影响膜相As(Ⅴ)浓度梯度，不仅影响As(Ⅴ)渗析通量，也会改变道南平衡。选择高填充密度的膜组件、及时去除解吸液中富集的As(Ⅴ)是提高道南渗析除砷装置运行效率的有效手段。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵斌		11	10	2.0	3.0
3	张朝晖		18	69	5.0	8.0
5	刁法林	天津工业大学环境与化学工程学院	2	3	1.0	1.0
8	刘安琪	天津工业大学环境与化学工程学院	1	3	1.0	1.0
9	谭赟	天津工业大学环境与化学工程学院	1	3	1.0	1.0