硅晶体生长速率与过冷度关系的分子动力学模拟研究

• 作者: 刘博 周浪 周耐根 张弛 李克
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 晶体生长 过冷度 硅 分子动力学模拟
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 页码范围: 28-34
• 页数: 7页
• 分类号: O781
• 字数: 4175字
• 语种: 中文

摘要

基于Tersoff势函数描述硅原子间的相互作用,运用分子动力学方法模拟研究了不同过冷度条件下硅晶体凝固生长速率.结果发现,在一定过冷度范围内,硅晶体的生长速率随过冷度的增大而呈先快速增大后缓慢减小的趋势,并最终趋于不生长.同时,运用Wilson-Frenkel模型从理论上对硅晶体生长速率与过冷度关系进行了预测,分子动力学模拟结果与Wilson-Frenkel模型预测结果基本吻合,表明了硅晶体沿[100]方向的生长是一种扩散型生长.