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摘要:
石墨烯材料自问世以来,一直处于学界研究的焦点,在微电子器件领域,通过SiC衬底制备的近自由态石墨烯具有较大的应用潜力.本文介绍了SiC热解法制备石墨烯的优势与劣势,说明了近自由态石墨烯制备的原因.综合阐述了目前制备近自由态石墨烯的常用方法,并对比了各种制备方法的特点.最后,概述了近自由态石墨烯的常用表征手段.
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平衡态
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石墨烯的制备及表征研究进展
石墨烯
制备
综述
表征
性能
具有SiC缓冲层的Si衬底上直接沉积碳原子生长石墨烯
石墨烯
分子束外延
Si
衬底
碳化硅
同步辐射
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 SiC衬底上近自由态石墨烯制备及表征的研究进展
来源期刊 人工晶体学报 学科 工学
关键词 石墨烯 碳化硅 近自由态
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1-9,14
页数 10页 分类号 TQ028.3+8
字数 7826字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡小波 山东大学晶体材料国家重点实验室 67 321 9.0 14.0
2 徐现刚 山东大学晶体材料国家重点实验室 77 407 10.0 16.0
3 陈秀芳 山东大学晶体材料国家重点实验室 17 102 5.0 9.0
4 郁万成 山东大学晶体材料国家重点实验室 3 11 2.0 3.0
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碳化硅
近自由态
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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