辉光放电光谱激发源的射频功率驱动及自动控制系统

• 作者: 万真真 周颖昌 唐予军 施宁 王光磊 王永清
• 来源期刊: 高电压技术
• 关键词: 射频 功率匹配 辉光放电 光谱仪 溅射 等离子体 可控硅
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 高电压新技术
• 页码范围: 1942-1948
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20160616032

摘要

射频辉光放电原子发射光谱仪(RF GD-OES)的显著优势在于既能分析导体样品,又能直接分析非导体固体样品,在微纳米非金属涂镀层材料的逐层分析领域有着广泛应用.为此,介绍了射频辉光放电光谱激发源采用的射频功率电源及功率匹配器的工作原理,并结合双向可控硅交流调压技术研制了射频电源的计算机自动控制系统,给出了射频输出信号的计算机控制结果.采用本射频功率驱动及自动控制系统,结合自行研制的Grimm型辉光放电激发源,对有机防腐涂层样品进行了溅射激发,溅射效果良好.给出了溅射坑表面形貌图以及显微照片,经实验测得,逐层溅射速率为52.9 nm/s.采用本系统对1Cr18Ni9Ti不锈钢标准样品进行了分析精密度测试,Cr、Cu、Ti、Al元素测试结果相对标准偏差(RSD)均＜2.6％.