光学自由曲面化学磁性研磨抛光的表面粗糙度试验

• 作者: 丘永亮 邱腾雄
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学玻璃 自由曲面 化学磁性研磨 磁感应强度
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 设计与工艺
• 页码范围: 78-81
• 页数: 4页
• 分类号: TG58|TH161
• 字数: 2645字
• 语种: 中文

摘要

针对自由曲面光学玻璃研磨抛光存在的问题,提出通过数控技术结合化学磁性研磨技术来实现自由曲面光学玻璃的研磨抛光.应用正交试验设计对化学磁性研磨试验的4个因素进行研究,最终获得各个因素对于工件表面粗糙度影响的主次顺序,并确定其最优组合为:研磨时间60min,磁感应强度0.8T,研磨间隙1.0mm,磁极转速为3000r/rain.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丘永亮		36	55	3.0	5.0
3	邱腾雄		18	26	3.0	4.0