不同根区温度对嫁接黄瓜生长和光合参数的影响

• 作者: 付崇毅 孙世军 孙潜 宋阳 崔世茂 潘璐
• 来源期刊: 北方园艺
• 学科: 农学
• 关键词: 根区温度 嫁接黄瓜 生长特性 光合参数
• 年，卷（期）: 2016,（22）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-5
• 分类号: S642.204+.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.11937/bfyy.201622001

摘要

以云南黑籽南瓜和白籽南瓜为砧木,“津优35号”为接穗嫁接的黄瓜为试材,研究其在适温(CK:18～20℃)、亚适温(13～15℃)、低温(8～10℃)的根区温度条件下对嫁接黄瓜生长发育和光合指标的影响.结果表明:与CK相比,低温和亚适温对黄瓜的生长产生了明显的抑制作用,株高、茎粗、叶面积、叶片数、地上部干质量和全株干质量明显降低,而根冠比和地下部干质量却有所升高,其中低温条件下的抑制效果更为显著;低温和亚适温降低了嫁接黄瓜的SPAD值、净光合速率、蒸腾速率、胞间CO2浓度和气孔导度;而且不同的嫁接苗之间也存在差异,“黑籽”南瓜砧木在低温逆境的表现上要优于“白籽”南瓜砧木.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付崇毅	内蒙古农业大学农学院	31	195	8.0	13.0
2	崔世茂	内蒙古农业大学农学院	97	1026	18.0	26.0
3	孙潜	内蒙古农业大学农学院	8	47	4.0	6.0
4	宋阳	内蒙古农业大学农学院	33	239	8.0	14.0
5	潘璐	内蒙古农业大学农学院	9	82	4.0	9.0
6	孙世军	内蒙古农业大学农学院	7	34	4.0	5.0