微F-P腔可调谐滤波器关键工艺研究

• 作者: 曾毅波 李元元 蒙庆华 郭航 陈四海
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 学科: 工学
• 关键词: 微法布里-珀罗(F-P)腔 光刻反转 磁控溅射 剥离
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 8-11
• 页数: 4页
• 分类号: TN713
• 字数: 2826字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13873/J.1000-9787(2016)10-0008-04

摘要

采用表面加工工艺，AZ5214E光刻胶进行光刻并反转，磁控溅射NiCr合金，剥离出高度为2.3μm的金属桥墩，填充聚酰亚胺作为牺牲层，再在牺牲层上光刻、沉积金属形成金属桥面，在金属桥面的中心嵌入第二布拉格反射镜。采用O2等离子体刻蚀去除聚酰亚胺膜，制作成微法布里—珀罗（ F-P）腔，不需要硅片键合，克服了传统F-P腔高度不够高、调谐范围有限、腔平整度不好以及对设备要求高的缺点，并且可以做出大阵列结构，易于探测器集成。着重对腔体关键工艺，即金属桥墩的NiCr剥离工艺进行研究，针对现有技术缺陷，提出解决办法。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭航	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	34	112	6.0	8.0
2	李元元	中国科学院深圳先进技术研究院	5	19	1.0	4.0
6	蒙庆华	中国科学院深圳先进技术研究院	2	1	1.0	1.0
7	陈四海	中国科学院深圳先进技术研究院	4	1	1.0	1.0
8	曾毅波	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	10	53	4.0	7.0