气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响

• 作者: 于盛旺 刘小萍 申艳艳 贺志勇 郑可 钟强 高洁 黑鸿君
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 气体流量 MPCVD 金刚石膜 均匀性 晶粒取向 品质
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 页码范围: 2359-2363
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3763字
• 语种: 中文

摘要

使用自行研制的频率为2.45 GHz的TYUT型MPCVD装置,以H2和CH4为气源,在功率为8 kW、基片温度为1000℃、气体流量为100～800 sccm条件下,进行了直径为65 mm的大面积金刚石膜的沉积实验.使用扫描电镜、X射线衍射仪、数字千分尺和Raman光谱仪等仪器分别对金刚石膜的表面形貌、取向、厚度和品质进行了表征.实验结果表明,气体流量的变化会对金刚石膜的晶粒尺寸,晶体取向,沉积速率,厚度均匀性和品质产生较大的影响.气体流量在300～600 sccm范围内制备的金刚石膜才兼具晶粒尺寸均匀性好、表面缺陷少和品质高的优点.