氮氩流量比对玻璃基TiN薄膜的结构和硬度的影响

• 作者: 丛芳玲 刘旭 罗乐平 赵修建 赵青南 顾宝宝
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 玻璃基TiN薄膜 硬度 氮氩流量比
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 4076-4081
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3842字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射镀膜工艺,在不同的氮氩流量比条件下,制备了玻璃基TiN薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM、EDS)、纳米显微硬度仪,研究了TiN薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、元素成份、维氏硬度,分析了氮氩流量比对TiN薄膜结晶取向、硬度的影响机理.结果表明,在低的氮氩流量比条件下,TiN薄膜以(111)晶面择优取向;随着氮氩流量比增加,择优取向由(111)晶面向(200)晶面过渡;氮氩流量比为1∶2时薄膜以(200)晶面择优取向;继续增加氮氩流量比(1∶2 ～2∶1),TiN薄膜衍射峰强度降低,晶粒尺寸减小;当氮氩流量比增加到2∶1时,薄膜开始呈现非晶态.随着氮氩流量比的增加,薄膜硬度呈现先增加后减小的趋势;当氮氩流量比为1∶1时,TiN薄膜以(200)晶面择优取向结晶,组织致密均匀,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值(825 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵修建	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	220	2735	25.0	43.0
2	赵青南	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	45	423	12.0	19.0
4	丛芳玲	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	4	5	2.0	2.0
7	刘旭	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	16	77	4.0	8.0
8	罗乐平	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	4	5	2.0	2.0
9	顾宝宝	武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室	4	5	2.0	2.0