高比表面积SiO2的合成及表征

• 作者: 堵国成 姜忠义 张谐天 朱龙宝 杨良军 梁敏东 陶玉贵
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: SiO2 高比表面积 模板法
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 206-208
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

以阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,合成不同比表面积的二氧化硅颗粒.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)及比表面积分析等手段,对SiO2纳米颗粒的形貌和晶型等理化性质的改变进行表征.结果表明,纳米SiO2的比表面积随着CTAB量的增加而增大,当CTAB添加量为0.95g时,比表面积高达1098.392m2/g,同时形貌的规整性也随之增加,具有典型的二维六方介观结构.