退火温度对磁控溅射 Ru薄膜结构及膜基结合力的影响

• 作者: 喻利花 薛雅平 许俊华 郭丽萍 陈敏 鞠洪博
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ru薄膜 退火温度 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 125-127
• 页数: 3页
• 分类号: TG156.21
• 语种: 中文
• DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2016.06.028

摘要

采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜，利用真空退火炉、EDS、XRD，台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分、相结构、残余应力及膜基结合力的影响。结果表明，不同退火温度处理下的Ru薄膜呈六方Ru结构，具有（002）择优取向，当退火温度为600℃时，薄膜出现氧化相。退火处理能够改善薄膜结晶程度。随退火温度的升高，薄膜残余应力逐渐降低，膜基结合力先升高后降低，当退火温度为300℃时，膜基结合力最高，约为17．6 N。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学材料科学与工程学院	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院	58	246	8.0	12.0
3	鞠洪博	江苏科技大学材料科学与工程学院	17	35	4.0	5.0
4	薛雅平	江苏科技大学材料科学与工程学院	4	10	2.0	3.0