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Atomic-layer-deposited Al2O3 and HfO2 on InAlAs: A comparative study of interfacial and electrical characteristics
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摘要：
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| 篇名 | Atomic-layer-deposited Al2O3 and HfO2 on InAlAs: A comparative study of interfacial and electrical characteristics | ||
| 来源期刊 | 中国物理B（英文版） | 学科 | |
| 关键词 | high-k dielectric atomic layer deposition InAlAs characteristics | ||
| 年，卷（期） | 2016,（10） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 455-459 | |
| 页数 | 5页 | 分类号 | |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | 10.1088/1674-1056/25/10/108101 | ||
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characteristics
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中国物理B(英文版)
主办单位：
中国物理学会和中国科学院物理研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-1056
CN：
11-5639/O4
开本：
出版地：
北京市中关村中国科学院物理研究所内
邮发代号：
创刊时间：
语种：
eng
出版文献量（篇）
17050
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