Ta缓冲层厚度对FeMn/NiFe体系交换偏置的影响?

• 作者: 杨素分 陈冷
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 交换偏置 多层膜 织构 界面粗糙度 晶粒尺寸
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 研究 开发
• 页码范围: 7061-7065
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174|TB34
• 字数: 3639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.012

摘要

用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随 Ta 缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(H ex )和矫顽力(H c )的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈冷	北京科技大学材料科学与工程学院	52	225	9.0	12.0
2	杨素分	北京科技大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0