超支化缓蚀阻垢剂HBPAE-AMPS的微波合成及其性能研究

• 作者: 张勇 朱敏 董社英 袁小静 赵向阳
• 来源期刊: 当代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 超支化聚合物 微波合成 阻垢缓蚀性
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 2747-2750
• 页数: 4页
• 分类号: TQ028
• 字数: 3873字
• 语种: 中文

摘要

首先以二乙醇胺（DEA）、丁二酸酐（SAA）和丙烯酸为原料制备了单体超支化聚酰胺酯（HBPAE），随后HBPAE与单体2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸（AMPS）在过硫酸铵引发下、采用微波辐射法合成了超支化聚合物HBPAE-AMPS。最佳合成条件为：投料质量比m（HBPAE）：m（AMPS）=1：5.5、微波合成温度为70℃、功率为500 W、合成时间为50 min。在此基础上，通过红外光谱（IR）、静态阻垢法和电导法、极化曲线法和电化学阻抗（EIS）对其结构组成、阻垢性能、缓蚀性能进行了测定分析，结果表明HBPAE-AMPS有良好的阻垢缓蚀性，当投入量为50 mg/L时阻垢率达83.6%，缓蚀率达76.9%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董社英	西安建筑科技大学理学院	33	268	9.0	14.0
2	张勇	西安建筑科技大学理学院	21	93	6.0	9.0
3	朱敏	西安建筑科技大学理学院	9	14	3.0	3.0
4	赵向阳	西安建筑科技大学理学院	1	3	1.0	1.0
5	袁小静	西安建筑科技大学理学院	1	3	1.0	1.0