压力对甲基氯硅烷合成系统的影响

• 作者: 庹保华 李书兵 王文金 颜昌锐
• 来源期刊: 当代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 80 kt/a 甲基氯硅烷 合成装置 反应压力
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 工艺与装备
• 页码范围: 2699-2701
• 页数: 3页
• 分类号: TQ013.2
• 字数: 2718字
• 语种: 中文

摘要

以两套80 kt/a甲基氯硅烷合成装置为研究对象，探讨了反应压力对氯甲烷空床线速度、硅-铜触体转化率、氯甲烷单级转化率及二甲选择性的影响。结果表明，压力为0.23 MPa时，氯甲烷空床线速度较高，反应温度更易实现平稳控制，同时可获得更高的硅-铜触体转化率及氯甲烷单级转化率，但二甲选择性却较0.30 MPa时低。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李书兵		5	8	2.0	2.0
2	颜昌锐		3	5	1.0	2.0
3	王文金		8	19	2.0	4.0
4	庹保华		4	16	3.0	4.0