原子层沉积技术在新型太阳能电池中的应用?

• 作者: 万丽 孔梦琴 王世敏 王二静 胡航 董兵海 赵丽
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 纳米功能薄膜 染料敏化太阳能电池 钙钛矿太阳能电池
• 年，卷（期）: 2016,（23）
• 页码范围: 9-18
• 页数: 10页
• 分类号: TB34|TN305|O484
• 字数: 7080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.23.002

摘要

原子层沉积技术(ALD)是一项正处于发展之中、在许多领域具有巨大应用前景的新型材料制备技术，该技术在纳米结构和纳米复合结构的制备方面显示出独特的优势，在新型薄膜太阳能电池领域呈现出巨大的发展潜力和前景。首先概述了 ALD技术的工作原理，简要介绍了近几年 ALD技术在硅基太阳能电池和铜铟镓硒薄膜电池(CIGS)中的应用，然后重点综述了原子层沉积纳米功能薄膜在染料敏化太阳能电池(DSSCs)和有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池(PSCs)为代表的新型薄膜太阳能电池中的应用。最后，总结了原子层沉积功能薄膜的特点和优势，展望了 ALD在新能源材料与器件领域的应用前景和发展趋势。