温度、缺陷对磁畴壁动力学行为的影响?

• 作者: 朱金荣 胡经国 苏垣昌 范吕超
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 磁畴壁 电流驱动 缺陷 温度
• 年，卷（期）: 2016,（23）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 237501-1-237501-7
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.65.237501

摘要

基于Landau-Lifshitz-Gilbert自旋动力学方法，研究了磁纳米条中缺陷、温度对其电流驱动磁畴壁移动性质的影响。研究结果表明：缺陷能有效钉扎电流对磁畴壁的驱动作用，并且其钉扎能力依赖于其缺陷浓度、位置及形态。而温度能有效地去钉扎。特别地，缺陷处的焦耳热能有效地消除其缺陷对磁畴壁的钉扎作用。进一步的研究表明：其影响磁畴壁移动的缘由在于缺陷、温度能有效调节磁纳米条中磁畴壁的面外磁化强度。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡经国	扬州大学物理科学与技术学院	41	179	8.0	11.0
2	朱金荣	扬州大学物理科学与技术学院	35	109	7.0	8.0
3	苏垣昌	扬州大学物理科学与技术学院	5	4	1.0	2.0
4	范吕超	扬州大学物理科学与技术学院	1	0	0.0	0.0