篇名 | Fabrication and characterization of the normally-off N-channel lateral 4H-SiC metal-oxide-semiconductor field-effect transistors | ||
来源期刊 | 中国物理B(英文版) | 学科 | |
关键词 | metal-oxide-semiconductor field-effect transistors 4H-SiC field-effect mobility oxidation process | ||
年,卷(期) | 2016,(3) | 所属期刊栏目 | |
研究方向 | 页码范围 | 362-365 | |
页数 | 4页 | 分类号 | |
字数 | 语种 | 中文 | |
DOI | 10.1088/1674-1056/25/3/037306 |