磁控溅射玄武岩纤维基纳米Cu薄膜微观结构分析的研究

• 作者: 凤权 徐文正 杨莉 魏取福 魏安方
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 玄武岩纤维 磁控溅射 铜薄膜 微观结构
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 136-138,142
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射法在玄武岩纤维表面沉积纳米Cu薄膜,工作气体为氩气,利用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)观察Cu薄膜在纤维表面的微观结构,并较为系统地分析了磁控溅射工艺参数对Cu薄膜表面颗粒尺寸、表面粗糙度等的影响,采用X射线能谱仪(EDX)分析了溅射前后表面各元素的含量.结果表明:随着溅射功率的增大,溅射时间的延长其表面颗粒的团聚增强;溅射压强增大会导致表面粗糙度增大;基底温度的升高会导致Cu粒子热迁移现象,表面粗糙度增大,但对表面裂纹的产生有一定的改善,并利用AFM测试了裂纹的宽度和深度.