TiN涂层的制备及其性能研究

• 作者: 严芳芳 姬清华
• 来源期刊: 现代制造技术与装备
• 关键词: TiN涂层 磁控溅射 微观组织
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 设计与研究
• 页码范围: 57-58
• 页数: 2页
• 字数: 1840字
• 语种: 中文

摘要

本文通过射频磁控溅射沉积的方法,采用TiN靶材在基体上制备了氮化钛涂层,并利用扫描电镜、能谱分析仪、划痕仪、超景深显微镜,对制备的氮化钛涂层的宏观、微观形貌及力学性能进行了检测.研究表明,基体表面形成界面结合良好,镀层十分致密,无孔隙和裂纹等缺陷,实验最佳溅射功率为97.5W.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姬清华	新乡学院机电工程学院	13	25	3.0	4.0
2	严芳芳	新乡学院机电工程学院	7	14	3.0	3.0