四氟化硅制备方法的专利研究

• 作者: 周倩 白璐
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: 四氟化硅 制备方法 专利申请 电子与半导体工业
• 年，卷（期）: 2016,（19）
• 所属期刊栏目: 创新思维
• 页码范围: 22
• 页数: 1页
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.15913/j.cnki.kjycx.2016.19.022

摘要

四氟化硅(SiF4)作为电子与半导体工业的一种重要原料,随着多晶硅等行业的快速发展,其需求量越来越大,对四氟化硅(SiF4)的制备提出了更高的要求.简要分析了四氟化硅(SiF4)的制备方法和我国本土的专利申请现状,以期为未来的研究提供更好的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周倩		13	8	2.0	2.0
2	白璐		4	4	1.0	1.0