从专利角度谈干式真空泵的发展

• 作者: 詹巧月
• 来源期刊: 中国科技投资
• 关键词: 干式真空泵 清洁 专利申请 统计分析 发展动态
• 年，卷（期）: 2016,（19）
• 所属期刊栏目: MACHINERY AND TECHNOLOGY 机械与工艺
• 页码范围: 260-260,298
• 页数: 2页
• 字数: 2326字
• 语种: 中文

摘要

从1984年开始，日本便研制出了一种适于半导体工业应用的干式真空泵。之后随着半导体行业、化学工业的迅速发展，人类对清洁获得真空的需求越来越迫切，中国、美国、韩国等国家也开始研制干式真空泵，因而涌现出了大量的专利申请。尤其是2000年以后，干式真空泵已成为时代发展的标志，在半导体、化学、医药等易污染领域得到了广泛的应用，其无油、洁净的特点越来越受广大群众的喜爱。本文通过对世界的干式真空泵的专利申请进行统计分析，了解不同国家及其研究机构、企业等的专利申请特点和发展动态，为干式真空泵的后续发展提供可靠的技术信息支持。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	詹巧月		1	1	1.0	1.0