黄光光阻Rework常见问题描述

• 作者: 张传宝
• 来源期刊: 科技展望
• 关键词: 黄光 光阻rework
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 技术与应用
• 页码范围: 149-149
• 页数: 1页
• 字数: 1258字
• 语种: 中文

摘要

在半导体制程中，经常会进行黄光光阻的rework，而在rework过程中也会遇到各种各样的问题。实际上，很多问题都具有一定的共同性，如果有一个库可以对这些问题进行归纳分析，将会对后续的半导体量产甚至是新技术研究开发起到非常重要的作用。鉴于这个情况，本文总结了从40纳米到0.35微米技术中经常发生的黄光光阻rework的常见问题，并给出了问题原因以及解决方法。