关于二氧化硅的干法刻蚀工艺研究

• 作者: 王宏
• 来源期刊: 大科技
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀 选择比 最佳工艺条件
• 年，卷（期）: 2016,（27）
• 所属期刊栏目: 研究园地
• 页码范围: 296-296
• 页数: 1页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1973字
• 语种: 中文

摘要

本文利用反应离子刻蚀技术进行了多组刻蚀实验，重点研究了不同的工艺条件下对二氧化硅的刻蚀速率、均匀性性能、选择比等参数。通过对结果的比较和分析，本文得到了相对而言最佳工艺条件。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宏		1	0	0.0	0.0