解析二氧化硅的干法刻蚀工艺

• 作者: 杜先兵
• 来源期刊: 大科技
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀 二氧化硅 最佳工艺条件
• 年，卷（期）: 2016,（27）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 244-244
• 页数: 1页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1859字
• 语种: 中文

摘要

本文主要研究了二氧化硅的干法刻蚀工艺。通过一系列的采用不同实验条件的反应离子刻蚀工艺实验，分析了不同的气体流量、射频功率级压强所对应的刻蚀实验结果。通过实验数据优化了工艺条件。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜先兵		2	1	1.0	1.0