一种含三苯胺基团的席夫碱的合成及其光学性能

• 作者: 吕婧洁 孙林 廖荣宝 李奥成 王坡 荣子鲲 郭晓杰 金凤 陶栋梁 马明月 鲁天琪
• 来源期刊: 合成化学
• 关键词: 席夫碱 4-吡啶甲醛-N-(4-苯)二苯胺 三苯胺 合成 光学性能
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1004-1007
• 页数: 4页
• 分类号: O625.15|O626.21
• 语种: 中文
• DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.2017.12.17115

摘要

以4-吡啶甲醛和4-(N,N-二苯胺基)苯胺为原料,合成了一种含三苯胺基团的席夫碱4-吡啶甲醛-N-(4-苯)二苯胺(III),其结构经1H NMR,13C NMR,IR,MS(ESI)和元素分析确证.采用UV-Vis研究了III的光学性能.结果表明:III在二氯甲烷,乙酸乙酯,乙醇,乙腈和DMF中的λmax均位于293 nm和400 nm附近.