透射式微焦点X射线源钨-金刚石靶材的制备及其性能研究

• 作者: 刘俊标 牛耕 赵伟霞 韩立 马玉田
• 来源期刊: CT理论与应用研究
• 学科: 工学
• 关键词: 显微计算机断层成像 磁控溅射 钨-金刚石透射靶材
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 工业CT
• 页码范围: 189-194
• 页数: 6页
• 分类号: TP391.41
• 字数: 1732字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15953/j.1004-4140.2017.26.02.07

摘要

本文采用磁控溅射镀膜技术制备了钨-金刚石透射靶材,借助电子扫描电镜对靶材的钨薄膜进行微观形貌分析.同时借助YXLON光机,研究自制靶材在X射线出射率及其产生X射线所需消耗功率和寿命等性能,并与YXLON原带靶材进行性能比较.研究表明,采用磁控溅射制备的钨薄膜与YXLON靶材上的钨薄膜具有相似的表面形貌;在YXLON光机相同工作条件下,自制靶材的X射线出射率略高于YXLON原带靶材的X射线出射率的1%,二者辐射X射线所需的功率相差无几,自制靶材的寿命要长于YXLON靶材的.这表明自制钨-金刚石靶材能够满足微焦点射线源所需的高质量靶材的应用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊标	中国科学院电工研究所	45	181	8.0	11.0
2	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
3	牛耕	中国科学院电工研究所	11	22	2.0	4.0
4	马玉田	中国科学院电工研究所	10	4	1.0	1.0
5	赵伟霞	中国科学院电工研究所	8	3	1.0	1.0